↑ Вернуться: Важнейшие достижения

Электрохимическое получение сплошных слоев кремния в расплавленной смеси галогенидов щелочных металлов

Исследование относится к области металлургии неметаллов, к производству электролитического кремния в виде сплошных слоев толщиной от 1 мкм до 1 мм, которые могут найти применение в полупроводниковой технике, для производства «солнечных батарей» и т.д. Электрохимический способ получения сплошных слоев кремния путем электролиза гексафторсиликата калия в расплавах галогенидных солей, содержащих соединения кремния, заключается в том, что процесс электролиза ведут в расплаве – KCl (15÷50) –  KF (5÷50) – (10÷35) K2SiF6 мас. % в интервале температур от 650 до 800°С, при варьировании катодной плотности тока от 10 мА/см2  до 150 мА/см2 в атмосфере воздуха. Использование атмосферы воздуха значительно облегчает и удешевляет процесс получения сплошных осадков кремния из расплавов солей. Открываются перспективы для получения готовых элементов солнечных батарей методом гальванопластики, что позволяет исключить ряд технологических переделов используемых в промышленности  для их изготовления в настоящее время.

Публикации:

  1. Чемезов О.В., Аписаров А.П., Исаков А.В., Зайков Ю.П.  Патент РФ №2491374  от 27.08.2013 «Электрохимический способ получения сплошных слоев кремния», опубликован Бюл. №24, 2013.
  2. Зайков Ю.П., Исаков А.В.., Аписаров А.П., Чемезов О.В.  Получение кремния электролизом хлоридно-фторидных расплавов. Сб. тез. докладов 12 Андриановская конференция «Кремнийорганические соединения. Синтез, свойства, применение» 25-27 сент. 2013,  г. Москва, ИНЭОС РАН, М.,2013, с.73.
  3. Чемезов О.В.  Морфология электролитических осадков кремния, полученных из галогенидных и оксидно-галогенидных расплавов. Тез. докладов XVI Российской конференция по физической химии и электрохимии расплавленных и твердых электролитов, г.Екатеринбург 2013.
  4. Исаков А.В. Аписаров А.П.,Чемезов О.В., Зайков Ю.П. «Получение сплошных осадков Si электролизом фторидно-хлоридных расплавов солей» Тезисы докладов 2-ой Всероссийской научно-практической конференции «Фторидные технологии». 25-26 ноября 2011 г. Томск; Изд-во Томский политехнический университет,2011,с.30.

Авторы: д.х.н., зав. лаб. Зайков Ю.П., к.х.н., с.н.с. Чемезов О.В., к.х.н., н.с. Аписаров А.П., к.х.н., н.с. Исаков А.В.